近日，六安欣奕華電子材料生產基地及創新中心項目在六安市葉集區投產。
據介紹，該項目計劃總投資12億元，項目投產后將形成年產顯示光刻膠1萬噸、半導體光刻膠600噸的產能。根據此前公告，本項目占地面積97.75 畝，將建設光刻膠車間、危廢庫、乙類倉庫、丙類倉庫、罐區、控制室、動力中心、消防泵站、消防水池、廢氣處理、污水處理設施等其他生產及輔助設施、綜合樓、創新中心等。
半導體光刻膠主要應用于集成電路制造，其追求的是極高的分辨率、精密的線寬控制及復雜的工藝適配性。隨著芯片制程不斷微縮至納米級別，半導體光刻膠需與極紫外等先進光刻技術緊密配合，對雜質含量、感度、線邊緣粗糙度等指標有著近乎苛刻的要求，技術壁壘極高。
顯示光刻膠則主要用于平板顯示產業，在彩色濾光片、電極間隙等環節形成精細圖案。其更側重于優異的透過率、色彩飽和度、高對比度以及在大面積基板上的涂布均勻性。雖然線寬要求通常比尖端半導體寬松，但需滿足高生產效率和良好的視覺效果。
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